Grafit für Siliziumchips, Mikroschaltkreise und Solarzellen

Die Mikrotechnologie und Nutzung von Solarenergie haben ihre Wurzeln bereits in den 40-er Jahren des vergangenen Jahrhunderts.
Von da an werden sie für die Menschheit mit jedem Jahr wichtiger und bedeutender. Der Schlüssel zur Qualität und Effektivität der heutigen Halbleitersysteme liegt auch in der hohen Reinheit der Umgebung und eingesetzten Werkstoffe.
Deshalb wird im großen Maße für die Erzeugung von Halbleiterteilen extrem reines Silizium verwendet.
Die Herstellung von Silizium und Polysilizium für die Solarenergie und Photovoltaik gehört heute zu einem der meist verfolgten Industriebereichen.
Da die Fertigung dieser Halberzeugnisse eine ultrareine Umgebung und insbesondere die Reinheit der mit dem Siliziumgussblock in unmittelbaren Kontakt kommenden Werkstoffe erfordert, werden für das Schmelzen und Ziehen des Siliziums Graphitwerkstoffe mit einer Reinheit von ≤ 50ppm verwendet.
Neben der Fertigung von Graphitheizkörpern, Suszeptoren und Schmelzgefäßen für die Siliziumerzeugung konzentriert sich TOPGRAFIT auch auf die Erzeugung von Teilen für andere Halbleiterwerkstoffe, wie z.B. Germanium, Gallium und Arsenid.